Multifunctional MoOx and MoOxNy films with 2.5 < x < 3.0 and y < 0.2 prepared using controlled reactive deep oscillation magnetron sputtering

Abstract

Reaktivní magnetronové naprašování s hlubokými oscilacemi, pulzní kontrolou toku reaktivního plynu a vstupem reaktivního plynu, orientovaným k substrátu a umístěným v zóně hustého plazmatu před Mo terčem, bylo použito pro nízkoteplotní (< 120 °C) přípravu vrstev MoOx a MoOxNy s 2,5 < x < 3,0 a y < 0,2. Vysvětlujeme výhody použité depoziční techniky umožňující hladkou a reprodukovatelnou kontrolu složení vrstev a tím i jejich struktury a vlastností. Speciální pozornost věnujeme silnému dopadu malého snížení x ve vrstvách MoOx a malého zvýšení y ve vrstvách MoOxNy na jejich optické a elektrické vlastnosti, které přímo souvisí s proměnnou elektronovou strukturou těchto vrstev. Diskutujeme možné aplikace těchto vrstev v oblasti solárních článků, organické elektroniky a lithium-iontových baterií.