Local geometry around B atoms in B/Si(111) from polarized x-ray absorption spectroscopy

dc.contributor.authorKhan, Saleem Ayaz
dc.contributor.authorVondráček, Martin
dc.contributor.authorBlaha, Peter
dc.contributor.authorHoráková, Kateřina
dc.contributor.authorMinár, Jan
dc.contributor.authorŠipr, Ondřej
dc.contributor.authorCháb, Vladimír
dc.date.accessioned2020-06-22T10:00:15Z
dc.date.available2020-06-22T10:00:15Z
dc.date.issued2020
dc.description.abstractUspořádání atomů B v dopovaném systému Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30◦:B bylo studováno za použití jemné struktury rentgenové absorpce blízko okraje (NEXAFS). Atomy boru byly deponovány segregací z objemu opakovaným blikáním vzorku. Pozice atomů B se stanoví porovnáním měřených polarizovaných (závislých na úhlu) NEXAFS spekter se spektry vypočtenými pro různé strukturální modely na základě výpočtu celkové energie ab initio. Zjistilo se, že většina atomů boru je umístěna v podpovrchových polohách Lc1, pod atomem Si. Avšak v závislosti na metodě přípravy může být významná část atomů B umístěna jinde. Možné umístění těchto ne-Lc1-atomů je na povrchu, vedle těch atomů Si, které tvoří rekonstrukci ( √ 3 × √ 3)R30◦.cs
dc.description.abstract-translatedThe arrangement of B atoms in a doped Si(111)-( √ 3 × √ 3)R30◦:B system was studied using a near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS). Boron atoms were deposited via segregation from the bulk by flashing the sample repeatedly. The positions of B atoms are determined by comparing measured polarized (angle-dependent) NEXAFS spectra with spectra calculated for various structural models based on ab initio total energy calculations. It is found that most of boron atoms are located in sub-surface Lc1 positions, beneath a Si atom. However, depending on the preparation method a significant portion of B atoms may be located elsewhere. A possible location of these non-Lc1-atoms is at the surface, next to those Si atoms which form the ( √ 3 × √ 3)R30◦ reconstruction.en
dc.format7 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.citationKHAN, S. A., VONDRÁČEK, M., BLAHA, P., HORÁKOVÁ, K., MINÁR, J., ŠIPR, O., CHÁB, V. Local geometry around B atoms in B/Si(111) from polarized x-ray absorption spectroscopy. Journal of physics-condensed matter, 2020, roč. 32, č. 4. ISSN 0953-8984.en
dc.identifier.document-number492984500006
dc.identifier.doi10.1088/1361-648X/ab4aba
dc.identifier.issn0953-8984
dc.identifier.obd43929549
dc.identifier.uri2-s2.0-85075814264
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/37029
dc.language.isoenen
dc.project.IDEF15_003/0000358/Výpočetní a experimentální design pokročilých materiálů s novými funkcionalitamics
dc.publisherIOP Publishingen
dc.relation.ispartofseriesJournal Of Physics-condensed Matteren
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© IOP Publishingen
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.subjectab initiocs
dc.subjectstrukturní analýzacs
dc.subjectXAScs
dc.subject.translatedab initioen
dc.subject.translatedstructure analysisen
dc.subject.translatedXASen
dc.titleLocal geometry around B atoms in B/Si(111) from polarized x-ray absorption spectroscopyen
dc.title.alternativeLokální geometrie kolem B atomů v B/Si(111) z polarizované rentgenové absorpční spektroskopiecs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen

Files

Collections