Fenomenologický model pro vysokovýkonovou pulzní reaktivní magnetronovou depozici dielektrických vrstev

Show simple item record
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorŠula, Michal
dc.contributor.refereeKos, Šimon
dc.date.accepted2013-08-22
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:18Z
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:18Z
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-08-16
dc.description.abstractPředložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.cs
dc.description.abstract-translatedPresented thesis is first, at the beggining, focused on summation of the current state in the field of pulsed reactive sputtering of dielectric thin films. Basic terms and problems are presented, along with short description of SDTrimSP, a software used for simulation of particle collisions. Next, the work focuses on description of a phenomenological model of reactive sputtering of thin films, and it's following numerical simulation of continual, pulse and HiPIMS modes of sputtering. After that, several input parameters of the model are analysed. At the end, a list of used materials is presented.en
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.description.resultObhájenocs
dc.format39 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier54747
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9867
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.subjectnaprašování tenkých vrstevcs
dc.subjectdielektrické tenké vrstvycs
dc.subjectpulzní reaktivní naprašovánícs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectfenomenologický modelcs
dc.subject.translatedthin films sputteringen
dc.subject.translateddielectric thin filmsen
dc.subject.translatedpulsed reactive sputteringen
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedphenomenological modelen
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.titleFenomenologický model pro vysokovýkonovou pulzní reaktivní magnetronovou depozici dielektrických vrstevcs
dc.title.alternativeA phenomenological model for high energy pulse reactive magnetron sputtering of dielectric layersen
dc.typebakalářská prácecs
local.relation.IShttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=54747

Files

Original bundle
Showing 1 - 4 out of 4 results
No Thumbnail Available
Name:
MichalSula-BakPrace.pdf
Size:
1.81 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Plný text práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
Sula_vedouci.pdf
Size:
295.68 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek vedoucího práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
Sula_oponent.pdf
Size:
1.5 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek oponenta práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
Sula_otazky.pdf
Size:
209.62 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Průběh obhajoby práce
Download

Collections

Bachelor´s works (KFY)