Fenomenologický model pro vysokovýkonovou pulzní reaktivní magnetronovou depozici dielektrických vrstev

Abstract

Předložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.