Nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů

Abstract

Předkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií. Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s.