Studium vnějších vlastností ZnO:Al narostlého technikou SILAR
Date issued
2017
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Springer
Abstract
Hliníkem dopované tenké vrstvy ZnO s křemeni-podobnou strukturou byly úspěšně deponovány na skelné substráty postupnou iontově adsorpční reaktivní metodou. Byl zkoumán vliv procentního složení hliníkových dopantů na nanostrukturu „květinám-podobných“ klastrů ZnO, morfologii a jejich optické vlastnosti. Tenké vrstvy ZnO, které krystalizují v hexagonální wurtzitové struktuře o velikosti krystalitů 44, 51, 56 a 43 nm pro intrinsickou vrstvu a vrstvy s 1, 3 a 5-ti procentním dotováním hliníkem. Přednostní orientace krystalitů je ve všech případech ve směru [001] kolmém na podložku. Ramanova spektroskopie odhalila pokles intenzity charakteristické spektrální čáry ZnO v důsledku substituce iontů Zn2+ atomy Al3+ a předpokládané potenciálové fluktuace slitinové neuspořádanosti. Zavedením Al3+ dopantů se významně zvýšila optická šířka zakázaného pásma ZnO.
Description
Subject(s)
Tenké vrstvy, ZnO, dopanty, SILAR, nano-struktury
Citation
OFFIAH, S. U., AGBO, S. N., ŠUTTA, P., MÂAZA, M., UGWUOKE, P. E., OSUJI, R. U., EZEMA, F. I. Study of the extrinsic properties of ZnO:Al grown by SILAR technique. Journal of solid state electrochemistry, 2017, roč. 21, č. 9, s. 2621-2628. ISSN 1432-8488.