Monte Carlo simulace napouštění reaktivního plynu pro reaktivní magnetronové naprašování vrstev

Abstract

Předkládaná diplomová práce se zabývá, v úvodu, shrnutím současného stavu technologie reaktivního magnetronového naprašování. Stručně prochází historický vývoj, moderní poznatky a problémy naprašovacího procesu. V další části práce je popsán přístup k numerické simulaci transportu reaktivního plynu uvnitř vakuové komory pomocí Monte Carlo metod. Následně je popsán návrh algoritmu numerické simulace transportu částic a příslušný užitý matematický model, při uvažování pouze kinetických interakcí reakčního plynu, a zanedbání vlivu přítomnosti plazmatu během naprašovacího procesu. Na konci práce jsou prezentovány výsledky simulací a diskuze, rozebírající vliv tlaku, velikosti průtoku a vzdálenosti výpusti napouštěcího zařízení reaktivního plynu na prostorové rozložení hustoty reaktivního plynu a rozložení dopadů na substrát a terč ve stacionárním stavu.