Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films
Date issued
2007
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Institute of Plasma Physics AS CR
Abstract
Elektronové rozdělovací funkce podle energie a lokální plazmové parametry byly zkoumány v pozici u substrátu (100mm od terče) pomocí časově rozlišené diagnostiky Langmuirovou sondou během vysokovýkonového pulzního dc magnetronového naprašování měděných vrstev. Velmi vysokých hustot plazmatu (až 2.1012cm-3) bylo dosaženo při opakovací frekvenci pulzů napětí fr=1kHz, délce pulzu t1=200μs, tlaku argonu p=1Pa a průměrném proudu v pulzu Ida=50A. Při stejných podmínkách kinetická energie elektronů rostla s rostoucím výkonem během pulzu. Po iniciační fázi byla v intervalu 10500-12500K. Na začátku pulzu byly zaznamenány poklesy plovoucího potenciálu plazmatu.
Description
Subject(s)
vysokovýkonový pulzní magnetron, magnetronová depozice, Langmuirova sonda, plazmová fyzika, diagnostika
Citation
XXVIII International conference on phenomena in ionized gases: July 15-20, 2007, Prague, Czech Republic: proceedings. Praha: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007, p. 1960-1962.