Pulzní magnetronová depozice nových nanostrukturních multikomponentních vrstev

Show simple item record
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKohout, Jiří
dc.contributor.authorProcházka, Michal
dc.contributor.refereeKubásek, Milan
dc.date.accepted2013-06-24
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:20Z
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:20Z
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-06-03
dc.description.abstractVrstvy Hf-B-C vykazují vysokou tvrdost a nízkou rezistivitu. V důsledku toho jsou zajímavé pro mnoho praktických aplikací. Hlavním cílem této práce bylo zkoumat vliv depozičních parametrů a přidávání přímesí na snížení kompresního pnutí a zachování vysoké tvrdosti vrstev připravených pulzní magnetronovou depozicí. Ukázalo se, že změna depozičního tlaku sice vedla ke snížení pnutí, ale za cenu poklesu tvrdosti. Podobné výsledky jsme dostali i při změně depozičního výkonu. Jedinou efektivní cestou se tedy prokázalo přidávání křemíku do vrstvy, které vedlo ke snížení pnutí při zachování vysoké tvrdosti. Zároveň bylo dosaženo lepší oxidační odolnosti materiálu.cs
dc.description.abstract-translatedHf-B-C films exhibit high hardness and low electrical resistivity. That makes them interesting for many different applications. The main aim of this study was to investigate the effects of deposition parameters and addition of silicon on compressive stress in films prepared by pulsed magnetron sputtering. It was found that the change of deposition pressure is not an effective way to reduce the residual stress because of worsening of the hardness. The same conclusions were observed in the case of the deposition power. It was proved that the only effective is an addition of silicon which significantly reduce compressive stress without worsening of the hardness and improve oxidation resistance of the material.en
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.description.resultObhájenocs
dc.format43 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier54746
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9866
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.subjectvrstvy Hf-B-Si-Ccs
dc.subjectpulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectzbytkové pnutícs
dc.subjecttvrdostcs
dc.subjectoxidační odolnostcs
dc.subject.translatedHf-B-Si-C filmsen
dc.subject.translatedPulsed magnetron sputteringen
dc.subject.translatedResidual stressen
dc.subject.translatedhardnessen
dc.subject.translatedoxidation resistanceen
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.titlePulzní magnetronová depozice nových nanostrukturních multikomponentních vrstevcs
dc.title.alternativePulsed magnetron deposition of new nanostructured multicomponent filmsen
dc.typebakalářská prácecs
local.relation.IShttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=54746

Files

Original bundle
Showing 1 - 4 out of 4 results
No Thumbnail Available
Name:
Bakalarska prace - Michal Prochazka.pdf
Size:
1.97 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Plný text práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
ProchazkaM_vedouci.pdf
Size:
296.12 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek vedoucího práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
ProchazkaM_oponent.pdf
Size:
588.5 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek oponenta práce
Download
No Thumbnail Available
Name:
ProchazkaM_otazky.pdf
Size:
216.24 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Průběh obhajoby práce
Download

Collections

Bachelor´s works (KFY)