Time-averaged and time-resolved ion fluxes related to reactive HiPIMS deposition of Ti–Al–N films

Show simple item record
dc.contributor.authorZauner, L.
dc.contributor.authorBahr, A.
dc.contributor.authorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorČapek, Jiří
dc.contributor.authorWojcik, T.
dc.contributor.authorHunold, O.
dc.contributor.authorKolozsvári, S.
dc.contributor.authorZeman, Petr
dc.contributor.authorMayrhofer, P.H.
dc.contributor.authorRiedl, H.
dc.date.accessioned2021-10-11T10:00:12Z
dc.date.available2021-10-11T10:00:12Z
dc.date.issued2021
dc.description.abstractPráce se zabývá časově průměrovanou i časově rozlišenou analýzou toku ionů v reaktivní HiPIMS depozici pro přípravu tenkých vrstev Ti–Al–N z kompozitních Ti–Al terčů. Hmotnostní spektroskopie odhalila, že zvýšení obsahu Al v terči nebo snížení podílu N2 v reaktivní atmosféře vede k proporčnímu zvýšení podílu Al+ iontů v toku na substrát. Za zkoumaných depozičních podmínek byly připraveny kubické Ti–Al–N vrstvy vykazující vysokou tvrdost až ~36 GPa a zároveň nízké tlakové pnutí.cs
dc.description.abstract-translatedTime-averaged and time-resolved ion fluxes during reactive HiPIMS deposition of Ti–Al–N thin films are thoroughly investigated for the usage of Ti–Al composite targets. Ion mass spectroscopy analysis revealed, that increasing Al content in the target material or reducing the N2 flow-rate ratio leads to a proportional increase of the Al+-ion count fraction. The deposition conditions allowed for the growth of cubic Ti–Al–N coatings exhibiting high indentation hardness of up to ~36 GPa at a low compressive stress level.en
dc.format12 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.citationZAUNER, L. BAHR, A. KOZÁK, T. ČAPEK, J. WOJCIK, T. HUNOLD, O. KOLOZSVÁRI, S. ZEMAN, P. MAYRHOFER, P. RIEDL, H. Time-averaged and time-resolved ion fluxes related to reactive HiPIMS deposition of Ti–Al–N films. Surface and Coatings Technology, 2021, roč. 424, č. 25 OCT 2021, s. "127638-1" - "127638-12. ISSN: 0257-8972cs
dc.identifier.document-number697567600009
dc.identifier.doi10.1016/j.surfcoat.2021.127638
dc.identifier.issn0257-8972
dc.identifier.obd43933325
dc.identifier.uri2-s2.0-85114121986
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/45437
dc.language.isoenen
dc.project.IDLO1506/PUNTIS - Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnostcs
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesSurface and Coatings Technologyen
dc.rights©autořics
dc.rights.accessopenAccessen
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectTi–Al–Ncs
dc.subjecttenká vrstvacs
dc.subjecthmotnostní spektroskopiecs
dc.subjectčasově rozlišená spektroskopiecs
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedTi–Al–Nen
dc.subject.translatedthin filmen
dc.subject.translatedmass spectroscopyen
dc.subject.translatedtime-resolveden
dc.titleTime-averaged and time-resolved ion fluxes related to reactive HiPIMS deposition of Ti–Al–N filmsen
dc.title.alternativeČasově průměrované a časově rozlišené toky iontů v reaktivní HiPIMS depozici vrstev Ti–Al–Ncs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen

Files

Collections

OBD
 Articles (NTIS)