Reaktivní magnetronová depozice vybraných oxidových vrstev a jejich vlastnosti

Abstract

Hlavní cíl této dizertační práce bylo zkoumání vlivu teploty (až do 1700°C) na strukturu a vlastnosti žíhaných vrstev Al-Ti-O a Si-Zr-O připravené pomocí reaktivního magnetronového naprašování. Poslední část této práce je zaměřena na zvýšení depoziční rychlosti kombinací procesů reaktivního naprašování a napařování z nataveného terče magnetronu. Tímto kombinovaným procesem byly připraveny velmi vysokou depoziční rychlostí (až 814 nm/min)transparentní amorfní SiO2 vrstvy s nízkým obsahem Zr.