Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering

Show simple item record
dc.contributor.authorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorČiperová, Zuzana
dc.contributor.authorČerstvý, Radomír
dc.contributor.authorHaviar, Stanislav
dc.date.accessioned2019-10-14T10:00:09Z
dc.date.available2019-10-14T10:00:09Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractČlánek pojednává o vyšetřování mechanických vlastností (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním. Hlavním cílem zkoumání bylo vyvinout ohebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy se zvýšenou odolnosti proti vzniku trhlin. (Zr, Si) vrstvy byly připraveny pomocí pulzního duálního magnetronového výboje. Mechanické vlastnosti a prvkové složení (Zr, Si) vrstev byly řízeny záporným předpětím na substrátu, tedy energií dodanou do rostoucí vrstvy dopadajícími ionty. Bylo zjištěno, že pulzní duální magnetronový výboj umožňuje přípravu ohebných tvrdých (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokou hodnotou tvrdosti H ≈ 20 GPa, poměrem H/E* > 0,1, elastickou vratností We > 60 %, kompresním pnutím a hustou mikrostrukturou bez pórů. Tyto slitinové vrstvy obsahují stejné množství Zr a Si v at. % a vykazují zvýšenou odolnost proti vzniku trhlin.cs
dc.description.abstract-translatedThe article reports on the investigation of mechanical properties of Si-rich (Zr, Si) alloy films deposited by magnetron sputtering. The main aim of this investigation is to develop flexible hard (Zr, Si) alloy films with enhanced resistance to cracking. The (Zr, Si) films were formed by a pulsed dual magnetron discharge. Mechanical properties and elemental composition of sputtered (Zr, Si) films were tuned by a negative substrate bias, i.e. by the energy delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that using of pulsed dual magnetron discharge makes it possible to deposit flexible hard (Zr, Si) alloy films with high values of hardness H ≈ 20 GPa, ratio H/E* > 0.1, elastic recovery We > 60%, compressive macrostress and dense, voids-free microstructure. These alloy films contain the same amount of Zr and Si in at.% and exhibit strongly enhanced resistance to cracking.en
dc.format7 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.citationMUSIL, J., ČIPEROVÁ, Z., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2019, roč. 688, č. 31 OCT 2019, s. „137216-1“-„137216-7“. ISSN 0040-6090.en
dc.identifier.document-number485256500020
dc.identifier.doi10.1016/j.tsf.2019.03.028
dc.identifier.issn0040-6090
dc.identifier.obd43926810
dc.identifier.uri2-s2.0-85063863136
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/35394
dc.language.isoenen
dc.project.IDLO1506/PUNTIS - Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnostcs
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesThin Solid Filmsen
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Elsevieren
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.subjectZr-Si slitinycs
dc.subjectTenké vrstvycs
dc.subjectStruktura, Mechanické vlastnostics
dc.subjectMikrostrukturacs
dc.subjectOdolnost proti vzniku trhlincs
dc.subjectMagnetronové naprašovánícs
dc.subject.translatedZirconium-silicon alloyen
dc.subject.translatedThin filmsen
dc.subject.translatedStructureen
dc.subject.translatedMechanical propertiesen
dc.subject.translatedMicrostructureen
dc.subject.translatedResistance to crackingen
dc.subject.translatedMagnetron sputteringen
dc.titleFlexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputteringen
dc.title.alternativeOhebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy připravené magnetronovým naprašovánímcs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen

Files

Collections

OBD
 Articles (KFY)
 OPEN License Selector