Vysokorychlostní naprašování vrstev SiZrO

dc.contributor.advisorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorVonásek, Martin
dc.contributor.refereeKos, Šimon
dc.date.accepted2012-06-27
dc.date.accessioned2013-06-19T06:55:57Z
dc.date.available2011-05-01cs
dc.date.available2013-06-19T06:55:57Z
dc.date.issued2012
dc.date.submitted2012-05-29
dc.description.abstractTato bakalářská práce je věnována problematice AC pulzního reaktivního magnetronového naprašování vrstev Zr-Si-O za využití duálního magnetronu, který pracuje v uzavřené konfiguraci magnetického pole. Byl zkoumán vliv parciálního tlaku reaktivního plynu - kyslíku na depoziční rychlost, mechanické vlastnosti, strukturu a prvkové složení.cs
dc.description.abstract-translatedThis thesis is dedicated to the reactive magnetron sputtering Zr-Si-O films using ac pulse dual magnetron that operates in close magnetic field configuration. The partial pressures of reactive gas - oxygen on deposition rate, mechanical properties, structure and elemental composition of the obtained films have been investigated.en
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.description.resultObhájenocs
dc.format38 s. (41 000 znaků)cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier49970
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/3717
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=49970
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.subjectZr-Si-Ocs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectmechanické vlastnostics
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subject.translatedZr-Si-Oen
dc.subject.translatedthin filmsen
dc.subject.translatedmechanical propertiesen
dc.subject.translatedreactive magnetron sputteringen
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.titleVysokorychlostní naprašování vrstev SiZrOcs
dc.title.alternativeHigh-rate sputtering of Si-Zr-O filmsen
dc.typebakalářská prácecs

Files

Original bundle
Showing 1 - 4 out of 4 results
No Thumbnail Available
Name:
Bakalarska prace - Martin Vonasek.pdf
Size:
1.34 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Plný text práce
No Thumbnail Available
Name:
Vonasek_vedouci.pdf
Size:
348.76 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek vedoucího práce
No Thumbnail Available
Name:
Vonasek_oponent.pdf
Size:
1.54 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek oponenta práce
No Thumbnail Available
Name:
Vonasek_otazky.pdf
Size:
192.83 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Průběh obhajoby práce