Porovnávací studie tenkých vrstev ZnO připravovaných pulzní laserovou depozicí – porovnání vlivu různých ablativních laserů

Abstract

Článek se zabývá transparentními vodivými oxidy na bázi ZnO, které byly připraveny pulsní laserovou depozicí (PLD) a jejich různými vlastnostmi, které jsou porovnány v rozsahu aplikovaných ablačních laserů: (1) pevnolátkový Nd:YAG laser pracující s třetí harmonickou (vlnová délka 355 nm, 15 ns délka pulzu a 10 Hz pulzní frekvence) a (2) excimerový laser pracující s KrF plynnou směsí (248 nm, 20 ns and 10 Hz). První část se zabývá vlivem tlaku kyslíku na krystalografické parametry nedopovaných tenkých vrstev ZnO. Jako optimální byl vybrán tlak v rozmezí 2 až 5 Pa. Navíc byl zkoumán vliv různých dopovacích prvků, hliníku a galia, v daném prostředí. Výsledky ukázaly, že male množství (cca 0,15 hmotnostního %) Al (nebo Ga), podstatně zlepšilo koncentraci nosičů náboje s adekvátním snížením resistivity. Dále byly zkoumány optické vlastnosti – propustnost a šířka zakázaného pásu. Srovnání použitých laserů odhalilo v podstatě pozitivní vliv na elektrické vlastnosti pro excimerový laser.