Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho addition
dc.contributor.author | Červená, Michaela | |
dc.contributor.author | Zeman, Petr | |
dc.contributor.author | Houška, Jiří | |
dc.contributor.author | Šímová, Veronika | |
dc.contributor.author | Procházka, Michal | |
dc.contributor.author | Čerstvý, Radomír | |
dc.contributor.author | Haviar, Stanislav | |
dc.contributor.author | Vlček, Jaroslav | |
dc.date.accessioned | 2021-03-15T11:00:29Z | |
dc.date.available | 2021-03-15T11:00:29Z | |
dc.date.issued | 2021 | |
dc.description.abstract | Byly připraveny tvrdé a opticky transparentní amorfní vrstvy Hf7B10Si32C2N44, Hf6B12Si29Y2C2N45 a Hf5B13Si25Ho3C2N48, u kterých byla následně vyšetřována oxidační odolnost ve vzduchu a teplotní stabilita v inertní atmosféře až do teploty 1600 °C. Byl studován také vývoj jejich struktury, tvrdosti a optických vlastností v závislosti na teplotě. Bylo zjištěno, že přidání Y nebo Ho (2–3 at.%) do vrstev Hf–B–Si–C–N vede ke stabilizaci tetragonální HfO2 fáze ve vrstvě povrchového oxidu. Tloušťka této povrchové oxidové vrstvy byla nejnižší v případě vrstvy s Y. Po žíhání v He nebyla u žádné vrstvy pozorována žádná hmotnostní změna až do 1315 °C a v případě vrstvy Hf6B12Si29Y2C2N45 dokonce až do 1350 °C. Tvrdost této vrstvy vzrostla po ohřevu na 1300 °C z původní hodnoty 22,2 GPa (měřeno po depozici) na 25,9 GPa a tato vrstva zůstala také opticky transparentní i po ohřevu na 1400 °C. Ke krystalizaci amorfní struktury pak došlo při teplotě kolem 1400 °C. | cs |
dc.description.abstract-translated | Hard and optically transparent amorphous Hf7B10Si32C2N44, Hf6B12Si29Y2C2N45 and Hf5B13Si25Ho3C2N48 films were prepared and examined for the oxidation resistance in air and thermal stability in inert gasses up to 1600 °C. A thermal evolution of their structure, hardness and optical properties was also studied. An addition of Y or Ho (2–3 at.%) into Hf–B–Si–C–N films leads to a stabilization of tetragonal HfO2 in a surface oxide layer upon oxidation. The thickness of this layer is the lowest for the Y addition. Upon annealing in He, no mass changes are detected up to 1315 °C and this temperature is shifted even to 1350 °C for the Hf6B12Si29Y2C2N45 film. The hardness of this film is enhanced from 22.2 GPa in the as-deposited state to 25.9 GPa after annealing to 1300 °C and the film retains its optical transparency up to 1400 °C. The crystallization of the amorphous structure occurs at around 1400 °C. | en |
dc.format | 7 s. | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.identifier.citation | ČERVENÁ, M. ZEMAN, P. HOUŠKA, J. ŠÍMOVÁ, V. PROCHÁZKA, M. ČERSTVÝ, R. HAVIAR, S. VLČEK, J.Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho addition. Journal of non-crystalline solids, 2021, roč. 553, č. 1 FEB 2021, s. „120470-1“-„120470-7“. ISSN 0022-3093. | cs |
dc.identifier.document-number | 612133200015 | |
dc.identifier.doi | 10.1016/j.jnoncrysol.2020.120470 | |
dc.identifier.issn | 0022-3093 | |
dc.identifier.obd | 43931379 | |
dc.identifier.uri | 2-s2.0-85093663900 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/42944 | |
dc.language.iso | en | en |
dc.project.ID | LO1506/PUNTIS - Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnost | cs |
dc.publisher | Elsevier | en |
dc.relation.ispartofseries | Journal Of Non-crystalline Solids | en |
dc.rights | Plný text není přístupný. | cs |
dc.rights | © Elsevier | en |
dc.rights.access | closedAccess | en |
dc.subject | Hf–B–Si(–Y/Ho)–C–N | cs |
dc.subject | Oxidační odolnost, Teplotní stabilita | cs |
dc.subject | Tvrdost | cs |
dc.subject | Optické vlastnosti | cs |
dc.subject.translated | Hf–B–Si(–Y/Ho)–C–N | en |
dc.subject.translated | Oxidation resistance | en |
dc.subject.translated | Thermal stability | en |
dc.subject.translated | Hardness | en |
dc.subject.translated | Optical properties | en |
dc.title | Enhancement of high-temperature oxidation resistance and thermal stability of hard and optically transparent Hf–B–Si–C–N films by Y or Ho addition | en |
dc.title.alternative | Zlepšení vysokoteplotní oxidační odolnosti a teplotní stability tvrdých a opticky transparentních vrstev Hf–B–Si–C–N přidáním Y a Ho | cs |
dc.type | článek | cs |
dc.type | article | en |
dc.type.status | Peer-reviewed | en |
dc.type.version | publishedVersion | en |