Tribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °C
dc.contributor.author | Javdošňák, Daniel | |
dc.contributor.author | Musil, Jindřich | |
dc.contributor.author | Soukup, Zbyněk | |
dc.contributor.author | Haviar, Stanislav | |
dc.contributor.author | Čerstvý, Radomír | |
dc.contributor.author | Houška, Jiří | |
dc.date.accessioned | 2019-03-04T11:50:36Z | |
dc.date.available | 2019-03-04T11:50:36Z | |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.description.abstract | Článek se zabývá strukturou, mikrostrukturou, mechanickými a tribologickými vlastnostmi a oxidační odolností WNx tenkých vrstev připravených magnetronovým naprašováním se stechiometrií x = [N]/[W] v rozsahu od 0 do 1,5. Zjistilo se, že (i) vrstvy s x ≤ 0,20 vykazují α-W strukturu se sloupcovou mikrostrukturou, zatímco vrstvy s x ≥ 0,27 vykazují β-W2N nebo δ-WN strukturu a jemnozrnnou mikrostrukturu, (ii) tvrdost H a poměr tvrdosti k efektivnímu Youngově modulu H/E* silně ovlivňuje tribologické vlastnosti vrstev. Dále jsme vyšetřovali a diskutovali, jak jsou tribologické vlastnosti ovlivněny vlhkostí okolního vzduchu a oxidací vrstev. Oxidace vrstev je hodnocena na základě tloušťky vzniklé vrstvy WO3 na povrchu WNx vrstvy a ukazuje se, že je výrazně odlišná u vrstev WNx s x ≤ 0,20 a x ≥ 0,27. | cs |
dc.description.abstract-translated | The paper reports on the structure, microstructure, mechanical and tribological properties and oxidation resistance of WNx films with a stoichiometry x = [N]/[W] ranging from 0 to 1.5 prepared by magnetron sputtering. It was found that (i) films with x ≤ 0.20 exhibit α-W structure and columnar microstructure, while films with x ≥ 0.27 exhibit β-W2N or δ-WN structure and fine-grained microstructure, (ii) the hardness H and hardness to effective Young's modulus H/E* strongly affect the tribological properties of the films. Furthermore, we investigate and discuss how the tribological properties are affected by the humidity and by the film oxidation. The oxidation is expressed in terms of the thickness of the WO3 scale, and is shown to be significantly different for x ≤ 0.20 and x ≥ 0.27 WNx films. | en |
dc.format | 10 s. | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.identifier.citation | JAVDOŠŇÁK, D., MUSIL, J., SOUKUP, Z., HAVIAR, S., ČERSTVÝ, R., HOUŠKA, J. Tribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °C. Tribology international, 2019, roč. 132, č. Apr 2019, s. 211-220. ISSN 0301-679X. | en |
dc.identifier.document-number | 456758700020 | |
dc.identifier.doi | 10.1016/j.triboint.2018.12.019 | |
dc.identifier.issn | 0301-679X | |
dc.identifier.obd | 43924488 | |
dc.identifier.uri | 2-s2.0-85058970919 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/31162 | |
dc.language.iso | en | en |
dc.project.ID | GA16-18183S/Pokročilé povrchové povlaky se zlepšenými vlastnostmi a teplotní stabilitou | cs |
dc.publisher | Elsevier | en |
dc.rights | Plný text není přístupný. | cs |
dc.rights | © Elsevier | en |
dc.rights.access | closedAccess | en |
dc.subject | vysokoteplotní lubrikace | cs |
dc.subject | tvrdé tenké vrstvy | cs |
dc.subject | měření koeficientu tření | cs |
dc.subject | měření rychlosti opotřebení | cs |
dc.subject.translated | High temperature lubrication | en |
dc.subject.translated | Hard thin films | en |
dc.subject.translated | Friction measurement | en |
dc.subject.translated | Wear measurement | en |
dc.title | Tribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °C | en |
dc.title.alternative | Tribologické vlastnosti a oxidační odolnost tenkých vrstev wolframu a nitridu wolframu měřené při teplotách do 500°C | cs |
dc.type | článek | cs |
dc.type | article | en |
dc.type.status | Peer-reviewed | en |
dc.type.version | publishedVersion | en |