Tribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °C

dc.contributor.authorJavdošňák, Daniel
dc.contributor.authorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorSoukup, Zbyněk
dc.contributor.authorHaviar, Stanislav
dc.contributor.authorČerstvý, Radomír
dc.contributor.authorHouška, Jiří
dc.date.accessioned2019-03-04T11:50:36Z
dc.date.available2019-03-04T11:50:36Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractČlánek se zabývá strukturou, mikrostrukturou, mechanickými a tribologickými vlastnostmi a oxidační odolností WNx tenkých vrstev připravených magnetronovým naprašováním se stechiometrií x = [N]/[W] v rozsahu od 0 do 1,5. Zjistilo se, že (i) vrstvy s x ≤ 0,20 vykazují α-W strukturu se sloupcovou mikrostrukturou, zatímco vrstvy s x ≥ 0,27 vykazují β-W2N nebo δ-WN strukturu a jemnozrnnou mikrostrukturu, (ii) tvrdost H a poměr tvrdosti k efektivnímu Youngově modulu H/E* silně ovlivňuje tribologické vlastnosti vrstev. Dále jsme vyšetřovali a diskutovali, jak jsou tribologické vlastnosti ovlivněny vlhkostí okolního vzduchu a oxidací vrstev. Oxidace vrstev je hodnocena na základě tloušťky vzniklé vrstvy WO3 na povrchu WNx vrstvy a ukazuje se, že je výrazně odlišná u vrstev WNx s x ≤ 0,20 a x ≥ 0,27.cs
dc.description.abstract-translatedThe paper reports on the structure, microstructure, mechanical and tribological properties and oxidation resistance of WNx films with a stoichiometry x = [N]/[W] ranging from 0 to 1.5 prepared by magnetron sputtering. It was found that (i) films with x ≤ 0.20 exhibit α-W structure and columnar microstructure, while films with x ≥ 0.27 exhibit β-W2N or δ-WN structure and fine-grained microstructure, (ii) the hardness H and hardness to effective Young's modulus H/E* strongly affect the tribological properties of the films. Furthermore, we investigate and discuss how the tribological properties are affected by the humidity and by the film oxidation. The oxidation is expressed in terms of the thickness of the WO3 scale, and is shown to be significantly different for x ≤ 0.20 and x ≥ 0.27 WNx films.en
dc.format10 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.citationJAVDOŠŇÁK, D., MUSIL, J., SOUKUP, Z., HAVIAR, S., ČERSTVÝ, R., HOUŠKA, J. Tribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °C. Tribology international, 2019, roč. 132, č. Apr 2019, s. 211-220. ISSN 0301-679X.en
dc.identifier.document-number456758700020
dc.identifier.doi10.1016/j.triboint.2018.12.019
dc.identifier.issn0301-679X
dc.identifier.obd43924488
dc.identifier.uri2-s2.0-85058970919
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/31162
dc.language.isoenen
dc.project.IDGA16-18183S/Pokročilé povrchové povlaky se zlepšenými vlastnostmi a teplotní stabilitoucs
dc.publisherElsevieren
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Elsevieren
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.subjectvysokoteplotní lubrikacecs
dc.subjecttvrdé tenké vrstvycs
dc.subjectměření koeficientu třenícs
dc.subjectměření rychlosti opotřebenícs
dc.subject.translatedHigh temperature lubricationen
dc.subject.translatedHard thin filmsen
dc.subject.translatedFriction measurementen
dc.subject.translatedWear measurementen
dc.titleTribological properties and oxidation resistance of tungsten and tungsten nitride films at temperatures up to 500 °Cen
dc.title.alternativeTribologické vlastnosti a oxidační odolnost tenkých vrstev wolframu a nitridu wolframu měřené při teplotách do 500°Ccs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen

Files

Collections