Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev oxidů vanadu

Abstract

Tato práce je zaměřena na vysokovýkonovou pulzní magnetronovou depozici tenkých vrstev oxidu vanadu. Cílem je vytvořit termochromickou vrstvu oxidu vanadu, jejíž přechodová teplota bude nižší než 68 °C a bude vykazovat změny propustnosti v oblasti infračerveného záření. Vrstvy byly připravovány v plynné směsi argonu a kyslíku za konstantního tlaku pracovního plynu par = 1.0 Pa. Vanadiový terč (99.999 %)byl zatěžován průměrnou výkonovou hustotou při depozici <Sd> = 12.4 14.0 W/cm2. Délka trvání pulzu byla t1 = 40, 50 a 80 s s opakovací frekvencí napájecího zdroje f = 250, 200 a 125 Hz, dle uvedeného pořadí. Pomocí elipsometrie byla zjištěna tloušťka deponovaných vrstev a zkoumány optické parametry jako index lomu n a extinkční koeficient k. V této práci jsou prezentovány výsledky vlivu depozičních parametrů, zejména délky trvání pulzu t1, teploty substrátu T a délky depozičního procesu t (tloušťky vrstvy) na termochromické vlastnosti připravených vrstev.