Příprava a charakterizace tenkých vrstev transparentních vodivých oxidů pomocí magnetronového naprašování

Abstract

Hlavním tématem této diplomové práce je depozice transparentních vodivých oxidů mědi pomocí magnetronového naprašování a měření jejich elektrických a transparentních vlastností, jako je elektrická rezistivita, koncentrace, pohyblivost volných nosičů náboje a optická transparentnost připravovaných tenkých vrstev. Jednotlivé připravované tenké vrstvy se liší svými depozičními podmínkami, jako stěžejní se uvažuje vliv změny průtoku reaktivního plynu (kyslíku a dusíku). V závislosti na množství průtoku kyslíku při depozici dochází ke změnám optické transparentnosti a elektrické rezistivity připravovaných transparentních vodivých oxidových vrstev. Kyslík je zde dodáván za účelem vytvoření tenké transparentní vodivé vrstvy s p-typovou vodivostí. V případě změny průtoku dusíku, za konstantního množství kyslíku v depozicích, se také mění elektrické a transparentní vlastnosti transparentních vodivých oxidů. Jako další byly v praktické části práce vybrány depoziční parametry, které poskytují ideální kompromis mezi optickou transparentností a elektrickou rezistivitou, aplikovány na čtyři vybrané geometrie za účelem zkoumání přesnějších výsledků měření koncentrace a pohyblivosti volných nosičů náboje s použitím van der Pauwovy metody.