Tvorba polykrystalických křemíkových vrstev rekrystalizací amorfního křemíku deponovaného metodami PVD a CVD
| dc.contributor.advisor | Šutta, Pavol | |
| dc.contributor.author | Bublíková, Petra | |
| dc.contributor.referee | Calta, Pavel | |
| dc.date.accepted | 2012-06-14 | |
| dc.date.accessioned | 2013-11-05T11:58:42Z | |
| dc.date.available | 2011-09-19 | cs |
| dc.date.available | 2013-11-05T11:58:42Z | |
| dc.date.issued | 2012 | |
| dc.date.submitted | 2012-05-25 | |
| dc.description.abstract | Diplomová práce se zabývá tvorbou amorfních křemíkových vrstev o tloušťce přibližně 1 mikrometr, jejich tepelným zpracováním pro přeměnu amorfní fáze na krystalickou a vyhodnocením vlivu odlišných depozičních technik na strukturu po tepelném zpracování. Práce se zabývá výzkumem mikrostrukturních a optických vlastností vrstev po tepelném zpracování ve srovnání s výchozí strukturou po depozici. Vrstvy se využívají zejména pro tenkovrstvé solární články II. a III. generace. V systému solárních článků plní zkoumané vrstvy funkci absorpční. | cs |
| dc.description.abstract-translated | The diploma work deals with the creation of amorphous silicon thin films (thickness approximately 1 ?m) and with the heat treatment of these films to achieve the microcrystalline structure. The work deals with the different kinds of methods of deposition and their influence on properties of thin films after heat treatment in the comparison with thin films after deposition. The aim of this work is to evaluate the influence of various methods on the structural and optical properties which are important because of the right function of the thin film which has absorbency. These films are used for solar cells II. and III. generation. | en |
| dc.description.department | Katedra materiálu a strojírenské metalurgie | cs |
| dc.description.result | Obhájeno | cs |
| dc.format | 56 s. | cs |
| dc.format.mimetype | application/pdf | |
| dc.identifier | 46664 | |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/4609 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Západočeská univerzita v Plzni | cs |
| dc.rights | Plný text práce je přístupný bez omezení. | cs |
| dc.rights.access | openAccess | en |
| dc.subject | amorfní křemík | cs |
| dc.subject | mikrokrystalický křemík | cs |
| dc.subject | tenké vrstvy | cs |
| dc.subject | polovodiče | cs |
| dc.subject | p-i-n přechod | cs |
| dc.subject | tepelné zpracování | cs |
| dc.subject | rekrystalizace | cs |
| dc.subject | zakázaný pás | cs |
| dc.subject | CVD depozice | cs |
| dc.subject | PVD depozice | cs |
| dc.subject | rentgenová difrakční analýza | cs |
| dc.subject | optická spektroskopie | cs |
| dc.subject | strukturní vlastnosti | cs |
| dc.subject | absorpční vlastnosti | cs |
| dc.subject | elektromagnetické záření | cs |
| dc.subject | solární články. | cs |
| dc.subject.translated | amorphous silicon | en |
| dc.subject.translated | microcrystalline silicon | en |
| dc.subject.translated | thin films | en |
| dc.subject.translated | semiconductors | en |
| dc.subject.translated | p-i-n junction | en |
| dc.subject.translated | heat treatment | en |
| dc.subject.translated | re-crystallization | en |
| dc.subject.translated | forbidden band | en |
| dc.subject.translated | CVD deposition | en |
| dc.subject.translated | PVD deposition | en |
| dc.subject.translated | X-ray diffraction | en |
| dc.subject.translated | optical spectroscopy | en |
| dc.subject.translated | structural properties | en |
| dc.subject.translated | absorbency | en |
| dc.subject.translated | electromagnetic radiation | en |
| dc.subject.translated | solar cells. | en |
| dc.thesis.degree-grantor | Západočeská univerzita v Plzni. Fakulta strojní | cs |
| dc.thesis.degree-level | Navazující | cs |
| dc.thesis.degree-name | Ing. | cs |
| dc.thesis.degree-program | Strojní inženýrství | cs |
| dc.title | Tvorba polykrystalických křemíkových vrstev rekrystalizací amorfního křemíku deponovaného metodami PVD a CVD | cs |
| dc.title.alternative | Creation of polycrystalline silicon thin films by re-crystallization of amorphous silicon deposited by PVD and CVD methods | en |
| dc.type | diplomová práce | cs |
| local.relation.IS | https://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=46664 |
Files
Original bundle
1 - 4 out of 4 results
No Thumbnail Available
- Name:
- DP_Bublikova.pdf
- Size:
- 1.86 MB
- Format:
- Adobe Portable Document Format
- Description:
- Plný text práce
No Thumbnail Available
- Name:
- Hodnoceni DP_Bublikova.tif
- Size:
- 77.99 KB
- Format:
- Tag Image File Format
- Description:
- Posudek vedoucího práce
No Thumbnail Available
- Name:
- OP_Bublikova.tif
- Size:
- 102.65 KB
- Format:
- Tag Image File Format
- Description:
- Posudek oponenta práce
No Thumbnail Available
- Name:
- Prubeh_Bublikova.tif
- Size:
- 38.62 KB
- Format:
- Tag Image File Format
- Description:
- Průběh obhajoby práce