Metastable structures in magnetron sputtered W–Zr thin-film alloys

dc.contributor.authorČervená, Michaela
dc.contributor.authorČerstvý, Radomír
dc.contributor.authorDvořák, Tomáš
dc.contributor.authorRezek, Jiří
dc.contributor.authorZeman, Petr
dc.date.accessioned2021-12-13T11:00:19Z
dc.date.available2021-12-13T11:00:19Z
dc.date.issued2021
dc.description.abstractBinární tenkovrstvé slitiny W–Zr s různými metastabilními strukturami byly připravené dc magnetronovým naprašováním z W a Zr terčů v argonové atmosféře. Byl zkoumán vliv prvkového složení vrstev na tvorbu různých struktur a fází ve vrstvách ve velmi širokém rozsahu 3–99 at. % Zr. Výsledná mikrostruktura a vlastnosti vrstev byly dávány do souvislosti s metastabilní strukturou vrstev daného složení. Bylo zjištěno, že vrstvy bohaté na W se strukturou tvořenou tuhým roztokem α-W(Zr) lze připravit v mnohem širším rozsahu složení (až do 24 at. % Zr), než je uvedeno v rovnovážném fázovém diagramu W–Zr. Tyto vrstvy vykazují zvýšenou tvrdost (až 16,1 GPa) a redukované zbytkové pnutí (až –0,05 GPa). Amorfní vrstvy W–Zr s velmi nízkou drsností povrchu (až 0,4 nm) a vlastnostmi kovových skel byly připraveny s obsahem Zr v rozmezí 33 a 83 at. %. Tvrdost těchto vrstev postupně klesá s rostoucím obsahem Zr v důsledku snižující se průměrné vazebné energie. Všechny připravené amorfní vrstvy vykazují na rozdíl od těch krystalických tlakové zbytkové pnutí. Struktura krystalických vrstev bohatých na Zr s více než 88 at. % Zr byla převážně dvoufázová s postupným přechodem od metastabilního tuhého roztoku β-Zr(W) (86–96 at. % Zr) přes metastabilní tuhý roztok ω-Zr(W) (94–100 at. % Zr) až k termodynamicky stabilní fázi α-Zr (99–100 at. % Zr) s rostoucím obsahem Zr (klesajícím obsahem W). Byla pozorována též tvorba dvoufázové skelno-krystalické struktury v přechodových zónách mezi plně krystalickými a plně amorfními vrstvami.cs
dc.description.abstract-translatedBinary W–Zr thin-film alloys with different metastable structures were prepared by dc magnetron co-sputtering of W and Zr targets in argon atmosphere on unheated and unbiased substrates. The effect of the elemental composition on the formation of different structures and phases was studied in a very wide range of 3–99 at.% Zr. The microstructure and properties of the films were related to the individual metastable structures prepared. We found that W-rich films with an α-W(Zr) solid solution structure can be prepared in much wider range of the elemental composition (up to 24 at.% Zr) than indicated in the equilibrium W–Zr phase diagram. These films exhibited an enhanced hardness (up to 16.1 GPa) and a reduced residual stress (down to −0.05 GPa). Amorphous W–Zr films with a very low surface roughness (down to 0.4 nm) and metallic glass features were prepared with the Zr content between 33 and 83 at.%. The hardness of these films gradually decreased with increasing Zr content due to reducing average bond energy. All films were in the compressive state in contrast to the crystalline ones. The structure of crystalline Zr-rich films with higher than 88 at.% Zr was predominantly dual-phased exhibiting a gradual transition from a metastable β-Zr(W) solid solution (86–96 at.% Zr) through a metastable ω-Zr(W) solid solution (94–100 at.% Zr) to the thermodynamically stable α-Zr phase (99–100 at.% Zr) with increasing Zr (decreasing W) content. We also observed the formation of dual-phase glassy-crystalline structures in the transition zones between fully crystalline and glassy films.en
dc.format9 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.identifier.citationČERVENÁ, M. ČERSTVÝ, R. DVOŘÁK, T. REZEK, J. ZEMAN, P. Metastable structures in magnetron sputtered W–Zr thin-film alloys. JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2021, roč. 888, č. 25 DEC 2021, s. "161558-1" - "161558-9". ISSN: 0925-8388cs
dc.identifier.document-number704802400002
dc.identifier.doi10.1016/j.jallcom.2021.161558
dc.identifier.issn0925-8388
dc.identifier.obd43933242
dc.identifier.uri2-s2.0-85112564991
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/46317
dc.language.isoenen
dc.project.IDSGS-2019-031/Nové tenkovrstvé materiály vytvářené pokročilými plazmovými technologiemics
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesJournal Of Alloys And Compoundsen
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Elsevieren
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.subjectW–Zrcs
dc.subjecttenká vrstvacs
dc.subjectmetastabilní strukturacs
dc.subjectkovové sklocs
dc.subjectmagnetronové naprašovánícs
dc.subject.translatedW–Zren
dc.subject.translatedthin filmen
dc.subject.translatedmetastable structureen
dc.subject.translatedmetallic glassen
dc.subject.translatedmagnetron sputteringen
dc.titleMetastable structures in magnetron sputtered W–Zr thin-film alloysen
dc.title.alternativeMetastabilní struktury v magnetronově naprašovaných tenkovrstvých slitinách W–Zrcs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen

Files