Possibilities of Increasing the Usability of Sputtered AZO Films as a Transparent Electrode

Abstract

Oxid zinečnatý dopovaný hliníkem (AZO) je slibným kandidátem pro nahrazení vrstev indiem dopovaného oxidu cíničitého (ITO) jako transparentní elektrody. Vzhledem ke své nižší ceně se používá při výrobě křemíkových solárních článků, je však obtížné získat vhodné elektrické vlastnosti při nízkých depozičních teplotách. Příprava filmů s nízkou tloušťkou AZO při nízké depoziční teplotě je předmětem intenzivního výzkumu. Předkládaná práce shrnuje uvedené výsledky, diskutuje příčiny rozdílů mezi vrstvami ITO a AZO a navrhuje směr výzkumu a potenciální řešení, které by mělo vést ke zvýšení využitelnosti AZO vrstev a také možnému nahrazení ITO vrstev.