High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS

Date issued

2021

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Elsevier

Abstract

Teoretické modely naznačují, že při depozici vrstev pomocí reaktivního HiPIMS lze dosáhnout vyšší depoziční rychlosti v porovnání s pulzním magnetronovým naprašováním s vyššími opakovacími frekvencemi (Mf-PDCMS, mid-frequency pulsed dc magnetron sputtering) díky nižšímu stupni otrávení terče. Pro potvrzení těchto teoretických výsledků byly provedeny série experimentů v laboratorním depozičním systému s různými terčovými materiály (Al, Cr, Ti, Zr, Hf, Ta, Nb). Dva terče stejného materiálu byly rozprašovány jak pomocí duálního Mf-PDCMS, tak pomocí duálního HiPIMS výboje při konstantním výkonu. Potvrzuje se, že vyšší depoziční rychlosti v oxidovém módu lze dosáhnout u HiPIMS depozice Ta2O5 a Nb2O5 vrstev. Experimentální výsledky jsou podpořeny Monte-Carlo simulacemi v programech SRIM a SDTrimSP.

Description

Subject(s)

Reaktivní magnetronové naprašování, HiPIMS, Monte-Carlo simulace, Depoziční rychlost, Rozprašovací výtěžek

Citation

MAREŠ, P., DUBAU, M., POLÁŠEK, J., MATES, T., KOZÁK, T., VYSKOČIL, J. High deposition rate films prepared by reactive HiPIMS. Vacuum, 2021, roč. 191, č. SEP 2021, s. "110329-1" - "110329-10". ISSN 0042-207X.
OPEN License Selector