Příprava a studium transparentních oxidů s řízenými vlastnostmi pro fotovoltaické aplikace

Abstract

Předmětem práce je příprava a studium transparentních oxidů s řízenými vlastnostmi pro fotovoltaické aplikace. Transparentní oxidy se nanášejí pomocí různých metod na substráty a tvoří tenké vrstvy. Tyto tenké vrstvy byly připraveny metodou plasmou podpořené chemické depozice (PECVD). Jako výchozí prekurzor byl použit oxid dusný (N2O) a silan (SiH4), pomocí kterých lze získat vrstvy amorfního oxidu křemičitého (a-SiO2) a amorfního hydrogenizovaného křemíkového oxonitridu (a-SiOxNy). Příslušným zředěním těchto dvou plynů lze velmi dobře regulovat mikrostrukturní a optické vlastnosti těchto tenkých vrstev. V další části práce jsou naznačeny technologie depozice tenkých vrstev a je zde blíže vysvětlena technologie PECVD. Dále jsou vysvětleny spektroskopické metody pro analýzu mikrostrukturních parametrů (Infračervená spektroskopie s Fourierovou transformací a Ramanova spektroskopie) a optických parametrů (UV/Vis spektrofotometrie a elipsometrická spektroskopie) tenkých vrstev používaných v tomto experimentu. V praktické části je popsána výroba tenkých vrstev od dodání materiálu po hotové experimentální vzorky. Jsou zde vyhodnoceny mikrostrukturní a optické parametry (propustnost, index lomu a optická šířka zakázaného pásu) z příslušných spektroskopických metod. V závěru práce jsou shrnuty všechny analyzované výsledky z praktické části a je zde uveden celkový přínos experimentu.