Příprava a studium oxidů křemíku s řízenými vlastnostmi pro fotovoltaiku a fotoniku

Abstract

Předkládaná diplomová práce je zaměřena na přípravu tenkých vrstev oxidu křemíku deponovaných metodou PECVD s využitím rf výboje (13,56 MHz). Vrstvy byly připraveny za nízké teploty (250 °C) na substráty ze skla Corning Eagle, měděné substráty a křemíkové wafery <100>. Odlišnosti nadeponovaných tenkých vrstev bylo dosaženo změnou průtoků plynných prekurzorů R = [N2O]/[SiH4]. Byl studován účinek R a vliv následného žíhání vzorků ve vzduchu do teploty 1100 °C, na chemické složení vzorků (analýza EDS), na mikrostrukturu vzorků (analýza XRD), na konfiguraci chemické vazby (FT-IR a Ramanova spektroskopie) a na optické vlastnosti připravených vrstev (UV-Vis spektroskopie a elipsometrie). Výsledky získané měřením jsou prezentovány, analyzovány a diskutovány. V závěru práce jsou výsledky zhodnoceny a je uvedeno potenciální využití pro FV aplikace.