Technologie Nanoimprinting Lithography

Abstract

Předkládaná bakalářská práce je zaměřena na popsání technologie "nanoimprinting lithography" (NIL) využívané v elektrotechnickém průmyslu. Její součástí je zmapování aplikací technologie NIL v oblasti tištěné i flexibilní elektroniky a uvedení používaných variant v oblasti technologických postupů. Dále specifikace a charakteristika současných trendů vývoje této technologie a její využití do budoucna. Cílem je tedy poskytnout určité představení této technologie a pomoci pochopit stávající problematiku výroby a vývoje. Hlavní přínos práce spočívá ve shromáždění důležitých informací a následném vyvození poznatků o funkci jednotlivých typů technologických postupů. Tyto lze aplikovat při jakékoliv jiné práci v oblasti litografie, nejen v elektronickém průmyslu.

Description

Subject(s)

nanoimprint litografie, nanovýroba, pokojová teplota, nanotransferový tisk, roll-to-roll, tepelná nanoimprint litografie, hybridní lithografie, UV nanoimprint litografie, step-and-flash

Citation

OPEN License Selector